白藤 立 | 京大

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概要

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関連著者

• 白藤 立

  京都大学

• 白藤 立

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 白藤 立

  京大

• 西野 茂

  京都工芸繊維大学工芸学部

• 西野 茂弘

  京都工芸繊維大学・工芸

• 西野 茂弘

  京都工芸繊維大学大学院電子情報工学専攻

• 西野 茂弘

  京都工芸繊維大学

• 林 康明

  京都工芸繊維大学大学院

• 林康 明

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 林 康明

  京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科

• Hayashi Yutaka

  Device Synthesis Section Electrotechnical Laboratory

• Hayashi Yuzo

  Irie Koken Co. Ltd.

• Hayashi Y

  Irie Koken Co. Ltd. Saitama Jpn

• 中神 優子

  京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科

• 宮崎 康雄

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 澤田 真人

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 陳 義

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 増田 泰一

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• Jacob C.

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• Jacob C

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 陳 義

  京都工芸繊維大学

• 増田 泰一

  京都工芸繊維大学

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著作論文

• 低誘電率層間絶縁膜のプラズマ化学気相堆積
• HMDSO添加のフロロカーボンプラズマを用いた低誘電率絶縁膜のCVD
• Si(NCO)_4添加のフロロカーボンプラズマを用いた低誘電率絶縁膜のCVD
• テトライソシアネートシランを用いたSiO:F膜のプラズマCVD
• 常圧CVDによるHMDSを用いたSi基板上への3C-SiCエピタキシャル成長(半導体Si及び関連電子材料評価)
• フルオロカーボンプラズマCVDにおけるガスケミストリーと膜物性および大気温暖化問題

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