大村 泰久 | 関西大学 大学院工学研究科:関西大学・先端科学技術推進機構

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概要

• 同名の論文著者
• 関西大学 大学院工学研究科:関西大学・先端科学技術推進機構の論文著者

関連著者

• 大村 泰久

  関西大学 大学院工学研究科:関西大学・先端科学技術推進機構

• 佐藤 伸吾

  関西大学 大学院工学研究科

• 大村 泰久

  関西大学大学院:関西大学・先端科学技術推進機構

• 大村 泰久

  関西大学工学部電子工学科

• 大村 泰久

  関西大学 大学院工学研究科

• 大村 泰久

  関西大学工学部

• 山村 毅

  関西大学 大学院工学研究科

• 河本 章宏

  関西大学工学部

• 佐藤 伸吾

  関西大学工学部

著作論文

• 極薄シリコン層を有するSOI MOSFETにおける(001)面及び、(111)面のフォノン散乱電子移動度のモデル化(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 極薄シリコン層を有するSOI MOSFETにおける(001)面及び、(111)面のフォノン散乱電子移動度のモデル化(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 極微細SOI MOSFETにおけるソース・ドレイン設計法の検討(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 極微細SOI MOSFETにおけるソース・ドレイン設計法の検討(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• Sub 100nm SOI MOSFETの横方向不純物拡散制御の重要性とプロセス指針に関する研究 (産学連携への掛け橋)

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