中嶋 一雄 | (株)富士通研究所

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• 中村 友二

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著作論文

• 裏面Ti堆積によるC49-C54 TiSi_2相転移の促進と低抵抗微細電極の形成
• TEMによるスパッタTiN膜の結晶粒構造とち密性の評価
• 三元基板を用いた温度特性の優れた1.3μm 帯ひずみ量子井戸レーザー

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