不動寺 浩 | 物質・材料研究機構 材料研

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概要

• 同名の論文著者
• 物質・材料研究機構 材料研の論文著者

関連著者

• 不動寺 浩

  金属材料技術研究所

• 新谷 紀雄

  科学技術庁金属材料技術研究所

• 不動寺 浩

  物質・材料研究機構 材料研

• 小林 幹彦

  (独)物質・材料研究機構

• 江頭 満

  金材研

• 不動寺 浩

  物材機構

• Fudouzi Hiroshi

  National Institute for Materials Science

• FUDOUZI H.

  National Institute for Materials Science

• 江頭 満

  金属材料技術研究所

• 小林 幹彦

  金属材料技術研究所 第5研究グル-プ

• 新谷 紀雄

  金属材料技術研究所

• 小林 幹彦

  科技庁 金材技研

• 不動寺 浩

  科技庁 金材技研

• 江頭 満

  科技庁 金材技研

• 新谷 紀雄

  科技庁 金材技研

• 新谷 紀雄

  (独)物質・材料研究機構材料研究所

• 不動寺 浩

  科学技術庁金属材料技術研究所第5研究グループ

• 新谷 紀雄

  科学技術庁金属材料技術研究所第5研究グループ

• 江頭 満

  (独)物質・材料研究機構

• 小林 幹彦

  科学技術庁金属材料技術研究所第5研究グループ

• 江頭 満

  科学技術庁金属材料技術研究所

• 京野 純郎

  (独)物質・材料研究機構材料研究所

• 京野 純郎

  金材技研

• 檀 武弘

  物材機構

• 京野 純郎

  科学技術庁金属材料技術研究所

• 檀 武弘

  金属材料技術研究所

• 壇 武弘

  科学技術庁金属材料技術研究所

• 檀 武弘

  科学技術庁金属材料技術研究所

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著作論文

• 微粒子集積のためのパターニングプロセス
• マイクロシリカ粒子の静電気力による配列プロセス
• 半導体化BaTiO_3-In複合粒子接触界面のI-V特性
• 基板上に配列した粒子の固定
• 真空蒸着法による基板及び粒子上へのSnO_2薄膜の作製
• 集束イオンビームを用いたマイクロ粒子の精密配列
• 配列粒子の被膜形成による基板上への固定
• 粒子アセンブルを目指した技術開
• 集束イオンビームによるセラミックス基板上への帯電像の形成
• 強制帯電処理による半導体化BaTiO_3-In複合粒子の作製とそのPTCR特性
• 粒子配列のための粒子への電荷付与
• CaTiO_3基板上におけるSiO_2粒子の配列プロセス
• 電子ビームを用いたセラミックス基盤上への帯電像の形成とその観察
• CaTiO_3基板上におけるSiO_2粒子プロセスに関する検討
• マイクロメーターサイズの粒子配列
• 誘電体基板上への粒子の配列とその達成度評価
• 帯電および非帯電CaTiO_3基板上へのSiO_2粒子の付着

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