新谷 紀雄 | 科学技術庁金属材料技術研究所第5研究グループ
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概要
関連著者
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不動寺 浩
金属材料技術研究所
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不動寺 浩
科学技術庁金属材料技術研究所第5研究グループ
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新谷 紀雄
科学技術庁金属材料技術研究所第5研究グループ
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新谷 紀雄
科学技術庁金属材料技術研究所
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不動寺 浩
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FUDOUZI H.
National Institute for Materials Science
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新谷 紀雄
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金属材料技術研究所
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小林 幹彦
金属材料技術研究所 第5研究グル-プ
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京野 純郎
(独)物質・材料研究機構材料研究所
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京野 純郎
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檀 武弘
物材機構
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壇 武弘
科学技術庁金属材料技術研究所
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檀 武弘
科学技術庁金属材料技術研究所
著作論文
- マイクロシリカ粒子の静電気力による配列プロセス
- 半導体化BaTiO_3-In複合粒子接触界面のI-V特性
- 集束イオンビームを用いたマイクロ粒子の精密配列
- 強制帯電処理による半導体化BaTiO_3-In複合粒子の作製とそのPTCR特性
- マイクロメーターサイズの粒子配列