荒川 富行 | 超lsi研究開発センタ

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概要

• 同名の論文著者
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関連著者

• 荒川 富行

  沖電気工業株式会社コンポーネント事業部

• 荒川 富行

  超lsi研究開発センタ

• 松本 良一

  プロセス技術センタ

• 松本 良一

  沖電気工業(株)

• 北 明夫

  沖電気工業

• 林 孝尚

  沖電気工業 半導体事業グループ 研究本部

• 林 孝尚

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センタ

• 北 明夫

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センタ

• 河津 佳幸

  沖電気工業(株)

• 河津 佳幸

  沖電気工業(株)プロセス技術センター

• 烏野 ゆたか

  沖電気工業株式会社 研究開発本部 マイクロシステム技術研究所 マイクロコンポーネント・プロジェクト

• 糟谷 行男

  沖電気工業

• 烏野 ゆたか

  沖電気工業

• 烏野 ゆたか

  沖電気工業株式会社コンポーネント事業部

• 高橋 博実

  沖電気工業株式会社コンポーネント事業部

• 大野 守史

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センタ

• 大野 守史

  沖電気工業

• 糟谷 行男

  沖電気工業株式会社コンポーネント事業部

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著作論文

• 熱間等方圧加圧による石英系光導波路のコア間狭ギャップ埋め込み性改善
• 酸窒化ゲート酸化膜の窒素原子分布と信頼性
• 高信頼性酸窒化膜形成とフラッシュメモリー及びCMOSFETへの応用
• 酸窒化トンネル膜劣化のバイアス極性依存と窒素原子分布
• 高信頼性酸窒化膜のフラッシュメモリトンネル膜への適用

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