松本 良一 | プロセス技術センタ

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概要

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関連著者

• 荒川 富行

  沖電気工業株式会社コンポーネント事業部

• 松本 良一

  プロセス技術センタ

• 荒川 富行

  超lsi研究開発センタ

• 松本 良一

  沖電気工業(株)

• 北 明夫

  沖電気工業

• 林 孝尚

  沖電気工業 半導体事業グループ 研究本部

• 林 孝尚

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センタ

• 北 明夫

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センタ

• 河津 佳幸

  沖電気工業(株)

• 河津 佳幸

  沖電気工業(株)プロセス技術センター

• 大野 守史

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センタ

• 大野 守史

  沖電気工業

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著作論文

• 酸窒化ゲート酸化膜の窒素原子分布と信頼性
• 高信頼性酸窒化膜形成とフラッシュメモリー及びCMOSFETへの応用
• 酸窒化トンネル膜劣化のバイアス極性依存と窒素原子分布
• 高信頼性酸窒化膜のフラッシュメモリトンネル膜への適用

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