井上 肇 | ソニー(株)sc Mosプロセス部門

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概要

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関連著者

• 井上 肇

  ソニー(株)セミコンタクタカンパニー第1LSI部門

• 井上 肇

  ソニー(株)sc Mosプロセス部門

• 角 博文

  ソニー(株)半導体(事)イメージセンサ事業部

• 金村 龍一

  ソニー

• 金村 龍一

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 岸田 悟

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 徳高 平蔵

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 岸田 悟

  鳥取大学大学院工学研究科

• 岸田 悟

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 田口 充

  ソニー(株)

• 岸田 悟

  鳥取大 工

• 金村 龍一

  ソニー(株)セミコンダクタソリューションネットワークカンパニーセミコンダクタテクノロジー開発部

• 森山 一郎

  ソニー(株)セミコンタクタカンパニー第1lsi部門

• 角 博文

  ソニー

• 角 博文

  ソニー(株)セミコンダクターカンパニー

• 角 博文

  ソニー株式会社

• 伊東 直彦

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 鈴木 説男

  ソニー(株)セミコンタクタカンパニー第1LSI部門

• 監物 秀憲

  ソニー(株)セミコンタクタカンパニー第1LSI部門

• 佐々木 正義

  ソニー(株)セミコンタクタカンパニー第1LSI部門

• 佐々木 正義

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー テクノロジー開発本部

• 伊東 直彦

  鳥取大学工学部

• 田口 充

  ソニー(株)sc Mosプロセス部門

• 角 博文

  ソニー(株) コアテクノロジー&ネットワークカンパニー Sc Ccdシステム事業部 Ccd商品部

• 角 博文

  ソニー株式会社scnイメージングデバイスカンパニー

• 徳高 平蔵

  鳥取大学工学部

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著作論文

• コンタクト抵抗特性に与えるTiN/Tiスパッタ密着層形成法の影響
• コリメートスパッタ法で形成したTiN膜の特性

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