太田 俊明 | 東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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概要
関連著者
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太田 俊明
東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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太田 俊明
立命館大学SRセンター
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太田 俊昭
東大理
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雨宮 健太
東京大学大学院理学系研究科
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雨宮 健太
東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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雨宮 健太
高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所
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近藤 寛
東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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近藤 寛
慶應義塾大学理工学部化学科
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近藤 寛
東京大学大学院理学研究科化学専攻
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雨宮 健太
東大理
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松村 大樹
東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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太田 俊明
東京大学
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太田 俊明
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物質研
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理研:spring-8
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松村 大樹
原子力機構
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長坂 将成
分子科学研究所
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横山 利彦
分子研
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坂井 延寿
東大院理
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大槻 匠
東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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坂井 延寿
東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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島田 透
東大院理
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鎌田 俊英
物質工学工業技術研究所
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長坂 将成
東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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中井 郁代
東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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島田 透
東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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横山 利彦
東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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横山 利彦
分子科学研究所
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中井 郁代
京都大学大学院理学研究科化学専攻
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太田 俊明
東大物性研
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八瀬 清志
物質工学工業技術研究所 高分子物理部
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坂井 延寿
東大院工
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ハ瀬 清志
産業技術総合研究所光技術研究部門
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八瀬 清志
物質工学工業技術研究所
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坂井 延寿
物構研PF
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登野 健介
理研XFEL
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水上 富士夫
物質研
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谷川 雄洋
東大理
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酒井 秀樹
東京理科大
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阿部 正彦
東京理科大
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登野 健介
東大院理
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渡辺 誠
東北大学多元物質科学研究所
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八瀬 清志
産業技術総合研究所光技術研究部門
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小笹 健仁
産業技術総合研究所技術研究部門
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松井 文彦
東大理
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朝倉 清高
東大理
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Yeom H.
延世大
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Yeom H.
Yonsei大
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岩澤 康裕
電気通信大学電気通信学部
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朝倉 清高
北大触媒セ
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水上 富士夫
物質工学工業技術研究所
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Yeom Han
東大理
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下村 勝
静岡大電子研
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深谷 俊夫
物質研
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岩澤 康裕
東京大学大学院理学研究科
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河野 省三
東北大学多元物質科学研究所
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北川 聡一郎
東大院理
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松田 巌
東京大学大学院理学系研究科物理学専攻
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YEOM Han
Atomic-scale Surface Science Reserch Center and Institute of Physics and Applied Physics. Yonsei Uni
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谷川 雄洋
東京大学大学院理学系研究科物理学専攻
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登野 健介
東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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長谷川 修司
東京大学大学院理学系研究科物理学専攻
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南部 英
東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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中村 徹
産総研
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南部 英
東大院理
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岩崎 正興
東京大学大学院理学系研究科化学専攻
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下村 勝
東北大学多元物質科学研究所
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河内 宣之
東工大院化学
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木村 亮太
東京理科大学
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赤井 俊雄
(株)三菱化学・科学技術研究センター
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松本 睦良
東京理科大学基礎工学部
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吉田 郵司
物質工学工業技術研究所 高分子物理部
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朝倉 清高
北大触媒化学研究センター
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Yeom H.w.
Yonsei Univ. Seoul Kor
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水上 富士夫
物質工学工技研
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籏野 嘉彦
東工大院化学
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Yeom W.h
Yonsei Univ. Seoul Kor
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山本 薫
物質工学工業技術研究所
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深谷 俊夫
物質工学工業技術研究所
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八瀬 清志
工業技術院物質工学工業技術研究所
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八瀬 清志
広島大学生物生産学部
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Yeom Han
Atomic-scale Surface Science Research Center And Institute Of Physics And Applied Physics Yonsei Uni
-
中村 徹
物質工学工業技術研究所
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松井 文彦
東京大学
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松本 睦良
物質工学工業技術研究所
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牛島 洋史
物質工学工業技術研究所
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小笹 健仁
物質工学工業技術研究所
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山本 薫
東京大学大学院理学研究所
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西山 岩男
Nec マイクロエレクトロニクス研究所 Lsi基礎研究部
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酒井 秀樹
東京理科大学
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浜田 康宏
東京大学大学院理学系研究科
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北川 聡一郎
東京大学大学院理学系研究科
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下村 勝
静岡大 大学院電子科学研究科
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岩澤 康裕
社団法人日本化学会
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籏野 嘉彦
九大 大学院
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吉田 郵司
産業技術総合研究所
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長谷川 修司
東京大学大学院理学研究科
著作論文
- 24pXD-4 Fe/Co系における元素選択的ヒステリシス測定(領域9, 領域3合同表面・界面磁性,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 24pXD-4 Fe/Co系における元素選択的ヒステリシス測定(表面・界面磁性,領域9,領域3合同)
- 放射光シンポジウム'94『放射光化学の最先端』報告
- 半導体表面上金属超薄膜の量子井戸状態の研究
- 時間分解NEXAFSとモンテカルロ法によるPt(111)上の水生成反応の反応機構の解明
- 光電子回折によるAu(111)上メチルチオレートの吸着構造解析
- 触媒表面反応における中間体の役割 : 高速表面XAFS法による研究
- シンクロトロン放射光を用いた表面反応キネティクスの実時間追跡
- 深さ分解XMCD法の開発と磁性薄膜の表面・界面への応用
- 黒田晴雄先生を悼んで
- International Symposium on IR-FEL and its Application 報告
- 会長この一年
- 2002年放射光学会活動方針
- 2000年環太平洋国際化学会議(Pacifichem-2000)シンポジウム「シンクロトロン放射光の化学への応用」の報告
- 21世紀を迎えて
- 白金ジオンジオキシム錯体蒸着膜の配向特性およびヘテロ積層膜の作成
- Au(111)上のメルカプトメチルチオフェン類縁体のナノ構造について
- 分子エレクトロニクスの基礎を築かれた井口洋夫先生--2001年の文化勲章受章者
- ジオキシム金属錯体を用いた一次元超格子薄膜の創製
- 放射光 III. 放射光による計測 2. XAFS(X線吸収微細構造)
- 18aWA-12 水素及び一酸化炭素吸着によるニッケル薄膜磁気相転移のX線磁気円二色性による研究
- 第10回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
- 表面研究と装置開発
- エネルギー分散型表面XAFS法
- 軟X線エネルギー分散型表面XAFS法による表面化学反応の時分割追跡
- 不等刻線間隔回折格子を用いた高分解能の可変偏角斜入射分光器