矢作 保夫 | 日立製作所生産技術研究所1

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概要

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関連著者

• 伊部 英史

  日立製作所生産技術研究所

• 伊部 英史

  日立 生産技研

• 矢作 保夫

  日立製作所生産技術研究所1

• 亀山 英明

  ルネサステクノロジ武蔵

• 山口 裕功

  日立製作所生産技術研究所1

• 山本 茂久

  ルネサステクノロジ北伊丹

• 伊部 英史

  (株)日立製作所中央研究所

• 矢作 保夫

  (株)日立製作所 生産技術研究所

• 日高 光守

  エルピーダメモリ(株)

• 秋岡 隆志

  ルネサステクノロジ武蔵

• 山口 裕功

  (株)日立製作所 生産技術研究所

• CHUNG Sung

  Cisco Systems, Inc

• WEN ShiJie

  Cisco Systems, Inc

• 亀山 英明

  (株)日立製作所生産技術研究所

• Wen Shijie

  Cisco Systems Inc

• Chung Sung

  Cisco Systems Inc

• 伊部 英史

  日立製作所

• 山本 茂久

  (株)ルネサステクノロジ解析技術開発部

• 斉藤 淳

  エルピーダメモリ(株)

• 亀山 英明

  (株)ルネサステクノロジ

• 斉藤 康幸

  (株)ルネサステクノロジ

• 秋岡 隆志

  (株)ルネサステクノロジ

• 日高 光守

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 片岡 文雄

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 江藤 晃

  エルピーダメモリ(株)

• 斉藤 良和

  (株)日立製作所半導体グループ

• 片岡 文雄

  (株)日立製作所 生産技術研究所 プロセスソリューション研究部

• Chung S.

  Cisco Systems, Inc.

• Wen S.

  Cisco Systems, Inc.

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著作論文

• 半導体デバイスの宇宙線中性子エラーの現状と動向 : メモリデバイスからロジックデバイス評価へ(耐過度故障,SWoPP2006)
• 半導体デバイス微細化に伴う中性子起因のマルチセルアップセットの多様化
• 半導体デバイス微細化に伴う中性子起因のマルチセルアップセットの多様化(ディジタル・情報家電,放送用,ゲーム機用システムLSI,回路技術(一般,超高速・低電力・高機能を目指した新アーキテクチャ))
• 進むパラダイムシフト : 半導体デバイスの宇宙線中性子エラー
• 次世代半導体デバイススケーリングの新たな障壁 - 宇宙線中性子ソフトエラー -

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