冨谷 茂隆 | ソニー株式会社
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概要
関連著者
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冨谷 茂隆
ソニー株式会社
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冨谷 茂隆
ソニー株式会社先端マテリアル研究所
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池田 昌夫
ソニー株式会社中央研究所
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池田 昌夫
ソニー(株)
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池田 昌夫
ソニー株式会社先端マテリアル研究所
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後藤 修
ソニー(株)
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浅井 正
ソニーイーエムシーエス(株)東海テック
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田中 隆之
ソニー白石セミコンダクタ(株)
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太田 誠
ソニー白石セミコンダクタ(株)
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水口 由紀子
ソニー株式会社マテリアル研究所材料解析センター
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村上 洋介
ソニー株式会社マテリアル研究所材料解析センター
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後藤 修
京都大学大学院・情報学研究科・知能情報学専攻
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大泉 善嗣
ソニー白石セミコンダクタ(株)
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庄司 美和子
ソニー白石セミコンダクタ(株)
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保科 幸男
ソニー白石セミコンダクタ(株)
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矢吹 義文
ソニー白石セミコンダクタ(株)
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後藤 修
ソニー株式会社半導体事業本部
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矢吹 義文
ソニー株式会社半導体事業本部
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気賀 智也
ソニーイーエムシーエス(株)東海テック
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後藤 修
沖電気工業(株)半導体技術研究所
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後藤 修
慶應義塾大学病院腫瘍センター
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菅沼 克昭
大阪大学産業科学研究所
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冨谷 茂隆
ソニー(株)マテリアル研究所 材料解析センター
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気賀 智也
ソニーイーエムシーエス株式会社幸田テック
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田中 伸史
ソニー株式会社マテリアル研究所材料解析センター
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水口 由紀子
ソニー(株)マテリアル研究所 材料解析センター
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村上 洋介
ソニー(株)マテリアル研究所 材料解析センター
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田中 伸史
ソニー(株)マテリアル研究所 材料解析センター
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冨谷 茂隆
ソニーEMCS解析技術センター
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水口 由紀子
ソニー株式会社先端マテリアル研究所:大阪大学産業科学研究所
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村上 洋介
ソニー株式会社先端マテリアル研究所
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浅井 正
ソニーイーエムシーエス株式会社コア技術部門
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気賀 智也
ソニーイーエムシーエス株式会社コア技術部門
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水口 由紀子
ソニー株式会社先端マテリアル研究所
著作論文
- GaN系半導体レーザにおける結晶欠陥(窒化物半導体結晶中の欠陥)
- 外部応力型ウィスカにおける現象解明と抑制技術(ウィスカ関係,高密度実装設計に要求される新しい信頼性技術)
- 端面電流非注入構造導入による純青色レーザのCOD抑制(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
- 端面電流非注入構造導入による純青色レーザのCOD抑制(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
- 端面電流非注入構造導入による純青色レーザのCOD抑制(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
- MgドープGaNエピタキシャル膜におけるピラミッド状微小欠陥
- 劣化した ZnCdSe 量子井戸構造の TEM 解析
- 機械的応力により発生するSnウィスカにおける屈曲・湾曲部の形成と結晶方位の関係性(高密度実装を牽引する材料技術とヘテロインテグレーション論文)
- 機械的応力により発生するSnウィスカにおける屈曲・湾曲部の形成と結晶方位の関係性