村上 洋介 | ソニー株式会社マテリアル研究所材料解析センター
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概要
関連著者
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冨谷 茂隆
ソニー株式会社
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浅井 正
ソニーイーエムシーエス(株)東海テック
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水口 由紀子
ソニー株式会社マテリアル研究所材料解析センター
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村上 洋介
ソニー株式会社マテリアル研究所材料解析センター
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気賀 智也
ソニーイーエムシーエス(株)東海テック
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冨谷 茂隆
ソニー株式会社先端マテリアル研究所
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菅沼 克昭
大阪大学産業科学研究所
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冨谷 茂隆
ソニー(株)マテリアル研究所 材料解析センター
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気賀 智也
ソニーイーエムシーエス株式会社幸田テック
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田中 伸史
ソニー株式会社マテリアル研究所材料解析センター
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水口 由紀子
ソニー(株)マテリアル研究所 材料解析センター
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村上 洋介
ソニー(株)マテリアル研究所 材料解析センター
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田中 伸史
ソニー(株)マテリアル研究所 材料解析センター
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水口 由紀子
ソニー株式会社先端マテリアル研究所:大阪大学産業科学研究所
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村上 洋介
ソニー株式会社先端マテリアル研究所
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浅井 正
ソニーイーエムシーエス株式会社コア技術部門
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気賀 智也
ソニーイーエムシーエス株式会社コア技術部門
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水口 由紀子
ソニー株式会社先端マテリアル研究所
著作論文
- 外部応力型ウィスカにおける現象解明と抑制技術(ウィスカ関係,高密度実装設計に要求される新しい信頼性技術)
- 機械的応力により発生するSnウィスカにおける屈曲・湾曲部の形成と結晶方位の関係性(高密度実装を牽引する材料技術とヘテロインテグレーション論文)
- 機械的応力により発生するSnウィスカにおける屈曲・湾曲部の形成と結晶方位の関係性