柴田 憲利 | 九州工業大学マイクロ化総合技術センター

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概要

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関連著者

• 浅野 種正

  九州工業大学 マイクロ化総合技術センター

• 中川 豪

  九州大学大学院システム情報科学研究院

• 中川 豪

  九州工業大学マイクロ化総合技術センター

• Asano Tanemasa

  Center For Microelectronics Systems Kyushu Institute Of Technology

• 柴田 憲利

  九州工業大学マイクロ化総合技術センター

• 浅野 種正

  九州大学大学院システム情報科学研究院

• 浅野 種正

  九工大マイクロ化センター

• 浅野 種正

  九州工大

• Asano Tanemasa

  Center For Microelectrortic Systems Kyushu Institute Of Technology

• 牧平 憲治

  九州工業大学マイクロ化総合技術センター

• 牧平 憲治

  関西大

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著作論文

• Ni供給量制限下におけるMILC成長に電界印加が及ぼす影響(有機EL, TFT,及び一般)
• Ni供給量制限下におけるMILC成長に電界印加が及ぼす影響(有機EL, TFT,及び一般)
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• ドーピングしたa-Si薄膜の金属誘起横方向固相結晶化特性
• ドーピングしたa-Si薄膜の金属誘起横方向固相結晶化特性(有機EL及び関連有機材料, 低温poly-Siと有機TFT技術と一般)
• ドーピングしたa-Si薄膜の金属誘起横方向固相結晶化特性(有機EL及び関連有機材料, 低温poly-Siと有機TFT技術と一般)
• ドーピングしたa-Si薄膜の金属誘起横方向固相結晶化特性(有機EL及び関連有機材料, 低温poly-Siと有機TFT技術と一般)
• ドーピングしたa-Si薄膜の金属誘起横方向固相結晶化特性
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• Si薄膜のNi供給量制限MILC成長における電界印加効果(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
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