川久保 達之 | 東工大・理

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概要

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関連著者

• 川久保 達之

  東工大・理

• 川久保 達之

  東工大理

• 槌屋 嘉実

  東工大・生命理工

• 椛島 成治

  東工大・総理工

• 槌屋 嘉実

  東工大理

• 新宮原 正三

  東工大理

• 槌屋 嘉実

  東工大・理

• 川久保 達之

  東工大 理

• Kawakubo Tatsuyuki

  Deparment Of Applied Physics Tokyo Institute Of Technology

• 椛島 成治

  東工大・理

• TSUCHIYA Yoshimi

  Department of Applied Physics,Tokyo Institute of Technology

• 阿部 英昭

  東工大・理

• 川久保 達之

  東工大 応物

• Tsuchiya Y

  Department Of Physics Faculty Of Science. Niigata University

• Tsuchiya Yoshimi

  Department Of Applied Physics Tokyo Institute Of Technology

• Tsuchiya Yoshimi

  Deparment Of Applied Physics Tokyo Institute Of Technology

• 椛島 成治

  東工大 総理工

• 鈴木 仁

  東工大・理

• 楊 春元

  東工大理

• 板倉 弘明

  東工大理

• 荻原 潔

  東工大理

• 新宮原 正三

  東工大・理

• 松崎 一朗

  東工大理

• 伊藤 達也

  東工大理

• 柳田 揚啓

  東工大・理

• 槌屋 美実

  東工大・理

• 椛島 成治

  東工大理

• Kawakubo Tatsuyuki

  Department Of Applied Physics Tokyo Institute Of Technology

• Yang C‐y

  Tokyo Inst. Technology Tokyo Jpn

• Yang C‐y

  Tokyo Inst. Technology Tokyo

• YANG Chun-Yuan

  Department of Applied Physics,Tokyo Institute of Technology

• ITAKURA Hiroaki

  Department of Applied Physics,Tokyo Institute of Technology

• HORIE Shigetake

  Department of Applied Physics,Tokyo Institute of Technology

• 瀬川 秀夫

  東工大・理

• Yang Chun-yuan

  Department Of Applied Physics Tokyo Institute Of Technology:department Of Physics Beijin Normal Univ

• Itakura Hiroaki

  Department Of Applied Physics Tokyo Institute Of Technology Oh-okayama

• Horie S

  Sci. Univ. Tokyo Tokyo

• Horie Shigetake

  Department Of Applied Physics Tokyo Institute Of Technology

• TSUCHIYA Yoshimi

  Department of Applied Physics, Tokyo Institute of Technology

• 青木 孝

  東工大・理

• 椛島 成治

  東工大総理工

• 稲垣 克彦

  イナガキクリニック

• 後藤 恒昭

  東工大理

• 白鳥 紀一

  東大物性研

• 槌屋 美實

  東工大・理

• 鈴木 仁

  東工大理

• 槌屋 美買

  東工大理

• 高松 敦子

  東工大理

• 青木 智一

  東工大理

• 佐々木 宏

  東工大応物

• 槌屋 嘉実

  東工大応物

• 川久保 達之

  東工大応物

• 山田 功

  東工大・理

• 村田 常雄

  東工大理

• 松崎 一朗

  東工大・理

• 平田 照二

  東工大・総合理工

• 野村 昭一郎

  東工大工

• 山崎 卓

  東工大理

• 高松 敦子

  東工大・生命理工

• 川久保 達之

  東工大・理・応物

• 中村 圭一

  東工大・総理工

• 鎌田 信夫

  東工大理

• 鎌田 信夫

  東工大・理

• 山崎 卓

  東工大・理

• 中村 滋

  東工大・理

• 熊谷 茂

  東工大・理

• 椛島 成治

  東工大

• 槌田 嘉実

  東工大理

• 飯野 茂

  東工大 総理工

• 阿部 英昭

  東工大 理

• 椛島 成治

  東工大 理

• 寺垣 卓郎

  東工大 総理工

• 阿部 英昭

  東工大理

• 中川 雄彦

  東工大

• 槌屋 美実

  東工大 応物

• 月岡 正至

  富士電機

• 後藤 恒昭

  東工大・理

• 青木 孝

  東工大・理・応物

• 野村 昭一郎

  東工大

• Shingubara Shoso

  Department Of Applied Physics Tokyo Institute Of Technology:vlsi Research Center Toshiba Corporation

• Guang-rong Qin

  Department Of Applied Physics Tokyo Institute Of Technology:department Of Physics Beijing Normal Uni

• YAMASAKI Hiromichi

  Department of Applied Physics,Tokyo Institute of Technology

• Shingubara Shosou

  Department Of Applied Physics Tokyo Institute Of Technology

• 槌屋 嘉美

  東工大 理

• 戸根木 宏

  東工大 理

• Yamasaki Hiromichi

  Department Of Applied Physics Tokyo Institute Of Technology

• YANG Chun-Yuan

  Department of Applied Physics,Tokyo Institute of Technology Oh-okayama:Department of Physics,Beijing Normal University

• KAWAKUBO Tatsuyuki

  Department of Applied Physics,Tokyo Institute of Technology

• ITAKURA Hiroaki

  Department of Applied Physics,Tokyo Institute of Technology Oh-okayama

• TSUCHIYA Yoshimi

  Department of Applied Physics,Tokyo Institute of Technology Oh-okayama

• Qin Guang-rong

  Department of Applied Physics,Tokyo Institute of Technology:Department of Physics,Beijing Normal University

• 山崎 博通

  東工大・理

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著作論文

• 27p-PS-114 液体-液体界面に生じる対流型不安定性と振動現象
• 物理と応用物理
• 2a-TK-7 油・水界面系における電位振動
• 31p-X-11 車軸藻の原形質流動における回復過程の細胞外Ca^濃度依存性
• 6a-D5-11 半導体レーザにおけるモードホッピングの頻度分布
• 28p-QC-12 ネマティツク液晶におけるウィリアムズ・ドメインの振動 III
• 半導体レーザーにおけるモード競合(非線形揺動と秩序化過程,科研費研究会報告)
• 1p-D-10 ネマティック液晶におけるウイリアムズ・ドメインの振動 II
• 半導体レーザーにおけるモード間のゆらぎの相関(秩序化過程における協力と乱れ-その動力学的研究-(第2回),科研費研究会報告)
• 2p-TA-5 渦流の空間構造の遂次転移
• 3p-RL-9 開放系における転移現象として見た人工膜のコンダクタンス変化
• 14a-R-2 下から熱せられた気体に発生する渦の構造
• 14a-R-1 吸いこみ口まわりの渦流の空間構造
• 27p-S-7 不連続なフローインピーダンスによる流速ゆらぎ
• 散逸構造の形成過程と緩和 : 渦流形成の場合(非線形緩和過程の統計物理,研究会報告)
• 1a-M-1 ネマテック液晶の乱流化過程における間欠性の変化
• 3a-BF-11 ベナール対流の乱流化過程における間欠的ふるまい
• 2p-SJ-8 吸いこみ口まわりの渦の秩序構造
• 31a-Q-8 ベナール対流における乱流のshadow graph法による変動解析
• 3V04 コレステリック液晶における電気流体力学的逐次相転移
• 31a-KB-4 吸い込み口まわりの渦流発生の過程
• ベナール対流の臨界点近傍における流速測定(非線型・非平衡状態の統計力学,研究会報告)
• 1R01 ウィリアムズ・ドメイン形成の臨界電圧に対する雑音電圧の効果
• 27a-R-2 ランダムな運動をする原生動物の拡散係数
• 4p-K-6 CdCr_2Se_4の高周波特性
• Evolution Process of the Angle-Deflective Oscillation of the Williams Domain
• Angle-Deflective Oscillation of Stripe Pattern in Nematic Liquid Crystals
• 開放系における空間秩序構造の形成(秩序形成の初期過程におけるスケーリング則と非平衡熱力学,研究会報告)
• 3p-NN-7 吸いこみ口まわりの渦強度の成長
• 散逸構造における空間相関の成長 : プラズマ中のイオン音波の場合(非線型・非平衡状態の統計力学,研究会報告)
• 31a-W-15 非白色雑音に誘起された相転移
• 4a-F-6 プラズマ中のイオン音波の不安定性と空間相図
• 29a-H-9 吸い込みのまわりの渦流の発生とその構造
• 28a-R-9 結合した発振器系に生じるカオス状態
• 3R02 液晶におけるパターン形成に伴う空間相関の変化
• VO_2の赤外吸収 : 半導体 : 表面
• 6a-G-1 NiOの高周波特性
• 3a-TC-12 Li-doped CoOの高周波特性
• 7a-A-1 V_2O_3の相転移
• 5a-C5-4 熱ゲルの平行平板間加熱乾燥によるパタン形成
• 油/水の界面に現れる自励電位振動
• 3a-M-4 アモルファスSe,As_2Se_3,As_2S_3のパルス光伝導
• Electrical Circuit Simulation of Membrane Excitation
• 界面活性剤を用いた人工膜の興奮現象
• Fluctuations in the Membrane Potential in Excitation Process of Nitella
• 大学学部 (研究者教育) -- (大学における教育)
• 開放系の物理-5完-
• Formation of Vortices around a Sinkhole
• 1p-F-11 電解反応における非線形緩和
• 吸い込み口のまわりの渦流
• 5a-ND-4 原生動物の走熱性におけるランダムな運動
• 27p-EA-15 車軸藻の興奮時における膜電位ゆらぎ(生体物理)

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