鹿嶋 一生 | 株式会社ルネサステクノロジ
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概要
関連著者
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鹿嶋 一生
株式会社ルネサステクノロジ
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古屋 一仁
東京工業大学院理工学研究科
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宮本 恭幸
東京工業大学
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古屋 一仁
東京工業大学
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古屋 一仁
東工大工
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諏訪 輝
東工大
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諏訪 輝
東京工業大学大学院理工学研究科
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鹿嶋 一生
東京工業大学大学院理工学研究科
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牧野 博之
(株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部
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鈴木 弘明
株式会社ルネサステクノロジ
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篠原 尋史
株式会社ルネサステクノロジ
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牧野 博之
大阪工業大学情報科学部コンピュータ科学科
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篠原 尋史
ルネサスエレクトロニクス株式会社
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高田 英裕
株式会社ルネサステクノロジ
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栗本 昌憲
株式会社ルネサステクノロジ
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山中 唯生
ルネサスデザイン
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山中 唯生
株式会社ルネサスデザイン
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牧野 博之
大阪工業大学
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高田 英裕
ルネサスエレクトロニクス株式会社
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篠原 尋史
(株)半導体理工学研究センター
著作論文
- 45nm CMOSにおけるばらつき低減を目的とした基板バイアス制御技術の提案(学生・若手研究会)
- ゲートにより制御するホットエレクトロントランジスタにおける電流量の増大(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス)
- ゲートにより制御するホットエレクトロントランジスタにおける電流量の増大(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス)