宗像 誠 | 熊本工業大学
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概要
関連著者
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宗像 誠
熊本工業大学
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八木 正昭
熊本工業大学
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島田 寛
東北大学・多元物質研究所
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山岡 正則
熊本工業大学 エネルギーエレクトロニクス研究所
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馬場 誠
東北大・通研
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山口 正洋
東大 大学院医学系研究科
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山岡 雅則
熊本工業大学 エネルギーエレクトロニクス研究所
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大谷 浩一
熊本工業大学 エネルギーエレクトロニクス研究所
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荒井 賢一
東北大学・電気通信研究所
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山口 正洋
東北大学・電気通信研究所
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馬場 誠
東北大学・電気通信研究所
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山口 正洋
東北大学大学院工学研究科電気・通信工学専攻
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島田 寛
東北大学大学院工学研究科
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荒井 賢一
東北大学電気通信研究所
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島田 寛
東北大学 多元物質科学研究所
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山口 正洋
東北大学
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荒井 賢一
東北大学
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島田 寛
東北大学
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長谷川 隆
(株)科学技術研究所
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荒井 薫
(株)科学技術研究所
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馬場 誠
東北大学電気通信研究所
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馬場 誠
東北大学 電気通信研究所
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荒井 薫
みやぎ産業振興機構
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荒井 薫
(有)ハヤマ
著作論文
- (CoFeB)-(SiO_2)系アモルファス高電気抵抗膜の高周波特性とGHz帯インダクタへの応用
- (CoFeB)-(SiO_2)系高電気抵抗膜の高周波透磁率特性
- (CoFeB)-(SiO_2)系高電気抵抗膜の高周波透磁率特性とGHz帯インダクタへの応用
- (CoFeB)-(SiO_2)系アモルファス高電気抵抗膜の鉄損
- ポリイミド基板上に作製したFe-Al-O膜の電気抵抗と磁気特性
- Fe-(B, Al)-O薄膜の電気抵抗と磁気特性
- ポリイミド基板上に作製したFe-Al-O膜の磁気特性
- ポリイミド基板上に作製したFe-Al-O多層膜の電気抵抗と磁気特性