斎木 孝志 | 富士通(株)次世代LSI開発事業部

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概要

• 同名の論文著者
• 富士通(株)次世代LSI開発事業部の論文著者

関連著者

• 森 年史

  富士通(株)

• 橋本 浩一

  富士通(株)

• 加勢 正隆

  富士通(株)ULSI開発部

• 佐藤 成生

  富士通マイクロエレクトロニクス株式会社

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  富士通株式会社 次世代LSI開発事業部

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  富士通(株)次世代lsi開発事業部

• 中村 亮

  富士通(株)次世代lsi開発事業部

• 斎木 孝志

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• ピデイン セルゲイ

  富士通(株)次世代LSI開発事業部

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• 佐藤 成生

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著作論文

• 高応力を有する窒化膜使用によるMOSFETの駆動能力向上(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
• 高応力を有する窒化膜使用によるMOSFETの駆動能力向上(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))

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