前田 康二 | 東大・工
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概要
関連著者
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前田 康二
東大・工
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東大・工
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東大・先端研
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東大・工
著作論文
- 28p-K-10 ヘテロエピタキシャル薄膜中の転位の運動速度
- 25p-H-8 ヘテロエピタキシャル薄膜中の転移運動に対する膜厚効果
- 3p-M-3 時間分解法による緩和したSiGe/Siエピタキシャル膜のフォトルミネッセンス測定
- 27p-N-5 緩和したSiGe/Siエピタキシャル膜中に誘起される少数キャリアトラップ
- 29p-YC-8 緩和したSiGe/Siエピタキシャル膜中に誘起されるディープセンターの起源
- 12p-DK-1 SiGe / Siエピタキシャル膜中のディープセンター
- 31p-D-3 緩和したSiGe/Siエピタキシャル膜フォトルミネッセンス測定
- 1p-T-6 半導体中の転位運動に及ぼす水素の効果
- 28p-P-10 半導体ヘテロエピタキシャル膜中の転位運動に対する電子励起効果
- 28a-P-8 STMトンネル電流雑音強度の試料面内分布
- 14p-DH-4 STMトンネル電流の1/fゆらぎの物理的起源
- 30a-D-5 半導体ヘトロエピ膜中の転位運動に対する線張力効果
- 27p-ZN-9 Si_Ge_X/Si(100)中の転位運動速度の転位長依存性
- 2a-Z-8 ヘテロエピタキシャル膜中の転位の運動
- 25p-H-7 SiGe/Siエピタキシャル膜中のミスフィット転位のフォトルミネッセンス