三島 康由 | (株)富士通研究所

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著作論文

• エキシマレーザアニールpoly-Si膜におけるレーザ照射雰囲気と照射回数が表面モフォロジーに与える影響(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
• 低温ポリシリコンTFTを用いた高性能CMOS技術
• 低温ポリシリコンTFTを用いた高性能CMOS技術
• ガラス/Alメタル基板上のp-Si TFT特性
• ガラス/Alメタル基板上のp-Si TFT特性
• レーザアニールp-Si膜の特性評価
• レーザアニールp-Si膜の特性評価
• 12)レーザアニールp-Si膜の特性評価(〔情報センシング研究会 情報ディスプレイ研究会〕合同)(画像変換技術)
• レーザアニールp-Si膜の特性評価
• 超高真空スパッタリング装置を用いた多結晶 Si 膜の形成

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