菅 勝行 | (株)富士通研究所

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著作論文

• CWレーザー結晶化のディスプレイデバイスへの応用
• エキシマレーザアニールpoly-Si膜におけるレーザ照射雰囲気と照射回数が表面モフォロジーに与える影響(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
• CWラテラル結晶化(CLC)技術による移動度500cm^2/Vsを超える新低温ポリSi TFT技術(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
• SC-8-4 CWラテラル結晶化(CLC)技術によるガラス基板上高性能TFT
• レーザアニールp-Si膜の特性評価
• レーザアニールp-Si膜の特性評価
• 12)レーザアニールp-Si膜の特性評価(〔情報センシング研究会 情報ディスプレイ研究会〕合同)(画像変換技術)
• レーザアニールp-Si膜の特性評価

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