一木 正聡 | 産業技術総合研究所

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概要

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関連著者

• 一木 正聡

  産業技術総合研究所

• 一木 正聡

  産業技術総合研

• 一木 正聡

  (独)産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門 ネットワークmems研究グループ

• 前田 龍太郎

  独立行政法人 産業技術総合研究所

• 前田 龍太郎

  産業技術総合研究所

• 森川 泰

  産業技術総合研究所

• 中田 毅

  東京電機大学情報環境学部情報環境学科

• 中田 毅

  工業技術院機械技術研究所

• 中田 毅

  東京電機大学工学部精密機械工学科

• 前田 龍太郎

  産業技術総合研

• 中田 毅

  東京電機大学

• 前田 龍太郎

  独立行政法人 産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門

• 王 占杰

  東北大学

• 中田 毅

  東京電機大学情報環境学部

• 曹 俊杰

  産業技術総合研究所

• 張 麓〓

  産業技術総合研究所

• 小林 健

  (独)産業技術総合研究所

• 川口 浩司

  東京電機大学

• 小林 健

  産業技術総合研究所

• 小林 健

  産業技術総合研

• 近藤 龍一

  太陽誘電(株)ワイヤレスインフォメーションネットワークグループ先端材料デバイス部

• 王 占杰

  東北大学大学院工学研究科

• 野中 一洋

  産業技術総合研究所基礎素材研究部門

• 近藤 龍一

  太陽誘電(株)

• 真船 洋祐

  東京電機大学

• 単 学伝

  シンガポール生産技術研究所

• 尾崎 浩一

  産業技術総合研究所

• 小林 健

  産総研

• 前田 竜太郎

  産業技術総合研 集積マイクロシステム研究セ

• 一木 正聡

  マイクロメカトロニクス実装技術委員会

• 荒井 真

  東京電機大

• 野中 一洋

  (独)産業技術総合研究所 実環境計測・診断研究ラボ

• 大泉 彰吾

  東京電機大

• 尾崎 浩一

  産業技術総合研

• 野中 一洋

  産業技術総合研究所

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著作論文

• Pb(Zr,Ti)O_3薄膜のウエットエッチングにおけるダメージのLaNiO_3導電性酸化物薄膜による低減
• 圧電性材料の成膜技術とMEMSへの応用 : PZT系材料の成膜とデバイス形成に関する研究
• PLZT積層膜構造体の光起電力特性
• 圧電性材料の厚膜形成技術とMEMSへの応用 : PZT系材料の積層構造体作製とデバイス形成に関する研究
• パワーMEMS
• 微細加工技術を用いた圧電体成膜・デバイス形成技術に関する研究
• PLZT素子を用いた静電型光モータの機構
• 光起電力素子PLZTの電気的性質と光モータへの応用
• 特集に寄せて(生産流通トレーサビリティと人間状態計測における現状とセンサネットワーク応用-安全・安心社会の実現に向けた取り組み)
• 「生産流通プロセスのトレーサビリティと感性計測」技術の現状と今後(エレクトロニクス実装技術の現状と展望)
• PLZT素子を用いた静電型光モータの研究 : 静電型光モータに於けるPLZT素子サイズの影響(機械力学,計測,自動制御)
• PLZT素子を用いた静電型光モータの研究 : 駆動原理と基礎的実験(機械力学,計測,自動制御)
• 2P2-H09 静電型光モータにおける PLZT 素子のサイズの影響

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