石丸 学 | 阪大産研
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概要
関連著者
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石丸 学
大阪大学産業科学研究所
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石丸 学
阪大産研
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弘津 禎彦
大阪大学産業科学研究所
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弘津 禎彦
長岡技科大
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弘津 禎彦
大阪大学産業科学研究所高次制御材料科学研究部門材料機能物性研究分野
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平田 秋彦
大阪大学産業科学研究所
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内藤 宗幸
大阪大学産業科学研究所
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石橋 晃
北海道大学電子科学研究所
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海住 英生
北海道大学電子科学研究所
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近藤 憲治
北海道大学電子科学研究所量子機能素子研究分野
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川口 敦吉
北大電子研
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弘津 禎彦
阪大産研
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朝日 一
大阪大学 産業科学研究所
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朝日 一
阪大産研
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長谷川 繁彦
阪大・産研
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朝日 一
大阪大学産業科学研究所
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長谷川 繁彦
大阪大学産業科学研究所
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伊藤 利道
大阪大 大学院工学研究科
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平田 秋彦
阪大産研
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海住 英生
北大電子研
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近藤 憲治
北大電子研
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石橋 晃
北大電子研
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小野 明人
北海道大学電子科学研究所
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水野 章敏
学習院大学理学部
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森 博太郎
大阪大学超高圧電子顕微鏡センター
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大久保 忠勝
独立行政法人物質・材料研究機構磁性材料センター
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大久保 忠勝
物質・材料研究機構
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八木 伸也
名大院工
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八木 伸也
名大工
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喬 山
広大放射光セ
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喬 山
広大放セ
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今野 豊彦
阪府大院工
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川北 至信
九大理学院
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小原 真司
Asri/spring-8
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大友 季哉
KEK
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伊藤 恵司
京大原子炉
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加藤 秀実
東北大金研
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福永 俊晴
京大原子炉
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長谷川 正
東北大金研
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水野 章敏
学習院大理
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櫻井 雅樹
東北大金研
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渡辺 匡人
学習院大理
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長谷川 正
名大院工
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市坪 哲
京大工
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佐藤 洋一
愛知教育大
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松原 英一郎
京大工
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曽田 一雄
名大工
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武田 信一
九大理
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桜井 雅樹
東北大金研
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井上 明久
東北大金研
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竹内 恒博
名古屋大学工学部:名古屋大学エコトピア科学研究所
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水谷 宇一郎
豊田理研
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竹内 恒博
名大エコトピア
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森 博太郎
阪大超高圧電顕センター
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李 正九
阪大超高圧電顕センター
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高田 昌樹
ASRI/SPring-8
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松浦 真
宮城高専
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今野 一弥
宮城高専
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浅田 格
宮城高専
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張 偉
東北大金研
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垂水 竜一
阪大基礎工
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荻 博次
阪大基礎工
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平尾 雅彦
阪大基礎工
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才田 淳二
東北大国際高等研究センター
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花田 貴
東北大金研
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山崎 仁丈
東北大工
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喬 山
広大放射光科学研究センター
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曽田 一雄
名古屋大学シンクロトロン光研究センター
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森 博太郎
阪大電顕セ
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山崎 仁丈
東北大学大学院工学研究科
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寺山 正敏
大阪大学産業科学研究所
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内田 夏苗
大阪大学産業科学研究所
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森 博太郎
阪大UHVEM
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水野. 章敏
学習院大学理学部物理学科
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今野 豊彦
東北大学金属材料研究所
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佐藤 和久
東北大学金属材料研究所大阪センター
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渡辺 匡人
学習院大
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田中 裕輔
大阪大学産業科学研究所
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内藤 宗幸
大阪大学大学院
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高島 正樹
株式会社三菱化学科学技術研究センター
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川北 至信
九大理
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山崎 仁丈
東北大・工
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森 博太郎
大阪大学 超高圧電子顕微鏡センター
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Qiao S
Hiroshima Synchrotron Radiation Center Hiroshima University
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大久保 忠勝
大阪大学産研
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小野 明人
北大電子研
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元 鍾漢
阪大産研
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川口 敦吉
北海道大学電子科学研究所
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元 鐘漢
大阪大学産業科学研究所
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大久保 忠勝
(独)物質・材料研究機構
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山口 允裕
大阪大学大学院工学研究科マテリアル科学専攻
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〓 寅兌
大坂大学大学院工学研究科マテリアル科学専攻
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弘津 禎彦
大坂大学産業科学研究所
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大久保 忠勝
物質・材料研究機構材料研究所
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バシール ヌブラ
北大電子研
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ホワイト スザン
北大電子研
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長谷川 正
名古屋大学工学研究科
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佐藤 和久
東北大学金属材料研究所
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近藤 憲治
北海道大学電子科学研究所
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バシール ヌブラ
北海道大学電子科学研究所
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喬 山
広大放射光
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大久保 忠勝
大阪大学産業科学研究所
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森 博太郎
阪大超高圧電顕セ
著作論文
- 金属ガラスの構造と基礎物性(A02班)
- GaNナノロッドの先端先鋭化とその電界電子放出特性(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- TlInGaAsN/TlInP量子井戸構造中の自発的ナノスケール相分離
- 高ドーズ鉄イオン注入シリコンの再結晶化過程
- 相変化光記録材料の電子線構造解析
- アモルファス鉄シリサイド薄膜の局所構造と結晶化過程
- 相変化型記録材料Ge-Sb-Te非晶質薄膜の断面観察
- 26pPSB-19 磁場中及び無磁場中蒸着によるポリエチレンナフタレート有機膜上のニッケル薄膜に関する研究(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- Ni薄膜/ポリエチレンナフタレート(PEN)有機膜を用いた量子十字素子の作製とその評価
- 最近の研究から アモルファスシリコンカーバイドの構造と構造緩和過程
- 23pPSB-67 Ni/P3HT:PCBM/Niナノスケール接合の作製とその評価(23pPSB 領域4ポスターセッション,領域4(半導体メゾスコピック系・局在))
- 複合酸化物セラミックスの照射誘起構造変化
- δ-Sc_4Zr_3O_におけるイオン照射誘起構造変化の透過電子顕微鏡法による解析
- イオン照射誘起非晶質SiCの化学的短範囲規則性
- アモルファスSi_Ge_x合金構造の分子動力学シミュレーション
- アモルファスシリコンカーバイドの構造と構造緩和過程
- 透過電子顕微鏡法によるアモルファスSiCの構造解析 (特集 大阪大学産業科学研究所 マテリアルインテグレーション--材料・生体・情報の融合を目指して(2))
- 酸素イオン注入シリコンカーバイドにおける埋め込み非晶質層の構造解析
- イオンビーム技術によるSiC-on-insulator構造の作製