町田 英明 | トリケミカル研 先端技術探索室

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概要

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関連著者

• 町田 英明

  トリケミカル研 先端技術探索室

• 下山 紀男

  トリケミカル研究所

• 下山 紀男

  トリケミカル研 先端技術探索室

• 上田 章雄

  北海道大学電子科学研究所

• Avramescu Adrian

  北海道大学電子科学研究所

• 末宗 幾夫

  北海道大学電子科学研究所

• 末宗 幾夫

  北海道大学電子科学研究所:jst Crest

• 末宗 幾夫

  北海道大学 電子科学研究所

• 末宗 幾夫

  北大 電子科研

• 大下 祥雄

  豊田工業大学

• 小椋 厚志

  NECシリコンシステム研究所

• 星野 麻子

  トリケミカル研究所

• 鈴木 淑恵

  トリケミカル研究所

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著作論文

• HF(NEt_2)_4を原料ガスとして用いたHfO_2薄膜の堆積
• II-VI族化合物半導体フォトニックドットアレイの作製及び共振器特性の光学評価
• II-VI族化合物半導体フォトニックドットアレイの作製及び共振器特性の光学評価
• II-VI族化合物半導体フォトニックドットアレイの作製及び共振器特性の光学評価
• II-VI族化合物半導体フォトニックドットアレイの作製及び共振器特性の光学評価
• 有機化合物を用いる次世代「有機Cat-CVD」の開発と低温成膜への応用 (特集 半導体プロセス技術のイノベーション)

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