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小椋 厚志 | NECシリコンシステム研究所
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NECシリコンシステム研究所の論文著者
関連著者
小椋 厚志
NECシリコンシステム研究所
大下 祥雄
豊田工業大学
町田 英明
トリケミカル研 先端技術探索室
星野 麻子
トリケミカル研究所
鈴木 淑恵
トリケミカル研究所
著作論文
HF(NEt_2)_4を原料ガスとして用いたHfO_2薄膜の堆積
先端デバイス開発におけるSOI基板への期待(バルク成長分科会特集-最先端デバイスと科学技術-)
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