金廣 正彦 | 京都大学工学研究科 電子物性工学専攻

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概要

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• 同名の論文著者
• 京都大学工学研究科 電子物性工学専攻の論文著者

関連著者

• 木本 恒暢

  京都大学工学部電気電子工学科

• 松波 弘之

  京都大学工学部電気電子工学教室

• 松波 弘之

  京都大学工学部

• 木本 恒暢

  京都大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 金廣 正彦

  京都大学工学研究科電子物性工学専攻

• 木本 恒暢

  京都大学工学研究科

• 金廣 正彦

  京都大学工学研究科 電子物性工学専攻

• 松波 弘之

  京都大学工学研究科

• 飯田 倫之

  京都大学工学研究科 電子物性工学専攻

• 植田 康之

  京都大学工学研究科電子物性工学専攻

著作論文

• リモートプラズマ法によるシリコン酸化膜の低温形成とその特性評価
• リモートプラズマ法によるシリコン酸化膜の低温形成とその特性評価
• 酸素活性種を用いた極薄SiO_2膜の低温形成およびMOSFETゲート絶縁膜への応用
• ED2000-49 / SDM2000-49 酸素活性種を用いた極薄SiO_2膜の低温形成およびMOSFETゲート絶縁膜への応用

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