滝田 隼人 | 北陸先端科学技術大学院大学ナノマテリアルテクノロジーセンター
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概要
関連著者
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鈴木 寿一
北陸先端科学技術大学院大学
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滝田 隼人
北陸先端科学技術大学院大学ナノマテリアルテクノロジーセンター
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工藤 昌宏
北陸先端科学技術大学院大学
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鈴木 寿一
北陸先端科学技術大学院大 ナノマテリアルテクノロジーセ
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滝田 隼人
北陸先端科学技術大学院大学 ナノマテリアルテクノロジーセンター
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工藤 昌宏
北陸先端科学技術大学院大学ナノマテリアルテクノロジーセンター
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田中 成明
北陸先端科学技術大学院大学
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赤堀 誠志
北陸先端科学技術大学院大学
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橋本 紀彦
北陸先端科学技術大学院大学ナノマテリアルテクノロジーセンター
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赤堀 誠志
北陸先端大ナノセンター
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赤堀 誠志
北陸先端科学技術大学院大学:ユーリッヒ研究所
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赤堀 誠志
北陸先端科学技術大学院大学ナノマテリアルテクノロジーセンター
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有田 潤哉
北陸先端科学技術大学院大学ナノマテリアルテクノロジーセンター
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YONKIL Jeong
北陸先端科学技術大学院大学
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Jeong Yonkil
北陸先端科学技術大学院大学ナノマテリアルテクノロジーセンター
著作論文
- フレキシブル基板上InAs超薄膜の作製と評価 (電子デバイス)
- フレキシブル基板上InAs超薄膜の作製と評価(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- エピタキシャルリフトオフ-貼付によって形成した異種材料基板上の狭ギャップ化合物半導体薄膜
- C-10-23 エピタキシャルリフトオフ-van der Waals貼付によるPET基板上高電子移動度InAs(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- エピタキシャルリフトオフ-van der Waals貼付によるInAs薄膜の異種材料融合集積(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性,一般))
- InAs薄膜のエピタキシャルリフトオフとSiO_2/Siウェハへのvan der Waals貼付(化合物半導体プロセス・デバイス・一般)