桐野 宙治 | クリスタル光学
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概要
関連著者
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桐野 宙治
クリスタル光学
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李 承福
東京大学生産技術研究所
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谷 泰弘
立命館大学理工学部
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榎本 俊之
大阪大学大学院
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桐野 宙治
(株)クリスタル光学
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谷 泰弘
立命館大学 理工学部機械工学科
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谷 泰弘
立命館大学
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峠 睦
熊本大学工学部
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榎本 俊之
大阪大学大学院工学研究科
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松本 泰道
熊本大学
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峠 睦
熊本大学大学院
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渡邉 純二
熊本大学大学院
-
江龍 修
名工大
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松本 泰道
熊大院自然
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鄭 容宝
財団法人応用科学研究所
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洪 錫亨
熊本大学大学院
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川向 尚
熊大院
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柏木 啓伸
熊大院
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洪 錫亨
熊大院
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江龍 修
名古屋工業大学
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村田 順二
立命館大学理工学部
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峠 睦
熊本院
-
鄭 容宝
(財)応用化学研究所 フッ素化学研究室
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松本 泰道
熊本大
-
松本 泰道
熊大院
-
渡邉 純二
熊本大 大学院
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秋本 恭一
電化皮膜工業(株)
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峠 睦
熊本大 大学院
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李 承福
クリスタル光学
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榎本 俊之
大阪大院
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桐野 宙治
クリスタル光学:大阪大院
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李 承福
株式会社クリスタル光学
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桐野 宙治
株式会社クリスタル光学
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峠 睦
熊本大
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村田 順二
立命館大学
著作論文
- 2724 ダイヤモンド単結晶半導体基板の紫外光照射研磨技術の研究(S33-3 材料の超精密加工とマイクロ/ナノ加工の動向(3),S33 材料の超精密加工とマイクロ/ナノ加工の動向)
- 気相反応を用いるフッ素系有機薄膜の生成と性質
- B35 真空紫外光を用いた砥粒フリー研磨により達成した銅の超平坦・超平滑表面(OS10 研磨技術(1))
- B34 化学研磨によるガラス研磨の代替可能性(OS10 研磨技術(1))
- ガラス研磨における酸化セリウムの代替砥粒開発
- ガラス研磨における酸化セリウムの代替砥粒開発
- 銅の超平滑化技術に関する研究ナノバブル水と真空紫外光を用いた仕上げ研磨