佐藤 祐一 | 秋田大学鉱山学部電気電子工学科
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概要
関連著者
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佐藤 祐一
秋田大学工学資源学部電気電子工学科
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佐藤 進
秋田大学鉱山学部電子工学科
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佐藤 祐一
秋田大学鉱山学部電気電子工学科
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田口 春男
TDK(株)電子デバイス事業本部
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田口 晴男
Tdk(株)電子デバイス事業本部
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小笠原 正
TDK(株)電子デバイス事業本部
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田口 春男
Tdk
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松村 透
秋田大学大学院工学資源学研究科
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飯塚 博
秋田大学鉱山学部
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能勢 敏明
秋田大学鉱山学部電子工学科
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飯塚 博
秋田大学鉱山学部電気電子工学科
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進藤 知英
秋田大学鉱山学部電気電子工学科
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桐田 英和
秋田大学鉱山学部電気電子工学科
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能勢 敏明
秋田県立大学システム科学技術学部
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能勢 敏明
秋田大学鉱山学部
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松村 透
秋田大学鉱山学部電気電子工学科
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木谷 勉
秋田大学鉱山学部電気電子工学科
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田口 晴男
TDK(株)セラミック事業本部
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岩谷 昭一
TDK(株)セラミック事業本部
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厚木 勉
秋田大学鉱山学部電子工学科
著作論文
- 陽極酸化ZnO膜とRFスパッタリングPr-Co-O薄膜によるヘテロ接合の電圧-電流特性
- YAGレーザ光照射により作製したMn-Cu酸化物薄膜マイクロ・サーミスタの特性
- Van der Pauw法による測定値に対する有限要素シミュレーション
- ECRプラズマソースを用いて作製したInN薄膜の特性
- InN-In_2O_3系薄膜の電気的光学的特性
- Pr-Co-O 系薄膜と BaTiO_3 半導体の接合とその電気的特性
- 反応性蒸着法によるInN-In_2O_3系薄膜の作製
- 交互蒸着法によるPb系ペロブスカイト型薄膜の作製