青柳 昌宏 | 産業技術総合研究所・研究グループ
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概要
関連著者
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青柳 昌宏
産業技術総合研究所つくば中央第二事業所
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青柳 昌宏
産業技術総合研究所・研究グループ
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青柳 昌宏
産業技術総合研究所
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仲川 博
独立行政法人産業技術総合研究所
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菊地 克弥
産業技術総合研究所つくば中央第二事業所
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仲川 博
産業技術総合研究所つくば中央第二事業所
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青柳 昌宏
東京理科大学大学院:独立行政法人産業技術総合研究所
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増田 宏
産業技術総合研 エレクトロニクス研究部門
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青柳 昌宏
独立行政法人 産業技術総合研究所
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菊地 克弥
独立行政法人産業技術総合研究所
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鈴木 貞一
産業技術総合研究所光電子SI連携研究体
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長尾 太介
産業技術総合研究所光電子SI連携研究体
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若園 芳嗣
産業技術総合研究所光電子SI連携研究体
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鈴木 敦
産業技術総合研究所光電子SI連携研究体
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石川 隆朗
産業技術総合研究所光電子SI連携研究体
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橋本 陽一
産業技術総合研究所光電子SI連携研究体
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田村 充章
産業技術総合研究所光電子SI連携研究体
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三川 孝
産業技術総合研究所光電子SI連携研究体
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長尾 太介
(独) 産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門光・電子SI連携研究体
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田村 充章
(独) 産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門光・電子SI連携研究体
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鈴木 貞一
(独) 産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門光・電子SI連携研究体
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橋本 陽一
日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
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三川 孝
産業技術総合研 エレクトロニクス研究部門
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鈴木 貞一
産業技術総合研 エレクトロニクス研究部門
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鈴木 敦
日本特殊陶業株式会社技術開発本部開発センター
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青柳 昌弘
(独)産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門光・電子SI連携研究体
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田村 充章
産業技術総合研 エレクトロニクス研究部門
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青柳 昌宏
独立行政法人産業技術総合研究所
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明連 広昭
埼玉大学大学院理工学研究科
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高田 進
埼玉大学大学院理工学研究科
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所 和彦
産業技術総合研究所つくば中央第二事業所
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田井野 徹
埼玉大学大学院理工学研究科
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明連 広昭
埼玉大学工学部
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高田 進
埼玉大学工学部
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青柳 昌宏
独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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Takada S
Electrotechnical Laboratory
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田井野 徹
埼玉大学工学部電気電子システム工学科
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大川 智主
埼玉大学工学部
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佐藤 広海
理研
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赤穂 博司
産総研・強相関電子技術セ
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田井野 徹
埼玉大学工学部
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明連 広昭
埼玉大学 工学部
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高田 進
埼玉大学 工学部
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後藤 勝敏
埼玉大学工学部
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瀬川 繁昌
(株)ピーアイ技術研究所
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佐藤 弘
産業技術総合研究所強相関電子技術研究センター
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赤穂 博司
産業技術総合研究所強相関電子研究センター
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後藤 勝敏
埼玉大学工学部:産業技術総合研究所つくば中央第二事業所
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南目 雅基
埼玉大学
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田井 野徹
九州大学
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飯塚 武志
埼玉大学
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瀬川 繁昌
株式会社ピーアイ技術研究所
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鄭 殷實
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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梅津 大祐
千葉工業大学工学部
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板谷 博
株式会社ピーアイ技術研究所
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赤穂 博司
産業技術総合研究所 強相関電子研究センター
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飯塚 武志
埼玉大学工学部
著作論文
- 超伝導デジタル FLL 回路を用いた DROS の設計および作製
- 高密度CWDM用モノリシック多波長VCSELの試作(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 感光性ポリイミド絶縁膜を用いたジョセフソン接合素子の作製
- デジタル磁束ロックループ回路を用いたオンチップ二重弛張振動SQUIDの作製
- 高密度CWDM用モノリシック多波長VCSELの試作(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 高密度CWDM用モノリシック多波長VCSELの試作(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 高密度CWDM用モノリシック多波長VCSELの試作(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 正規分布形状STJを用いたコイル集積型超伝導X線検出器の作製
- 独立行政法人 産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門 高密度SIグループ