埋め込み金属層基板を用いた赤外反射吸収分光(BML-IRRAS)によるSi表面反応の研究
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概要
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- 日本表面科学会の論文
- 2003-05-10
著者
-
宇理須 恒雄
総合研究大学院大学分子科学研究所
-
宇理須 恒雄
分子研
-
野田 英之
日立中央研究所
-
王 志宏
総合研究大学院大学分子科学研究所
-
山村 周作
総合研究大学院大学分子科学研究所
-
宇理須 恒雄
総合研究大学院大学
-
山村 周作
総合研究大学院大学
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