プラズマCVDによる低誘電率絶縁膜堆積技術 (特集 半導体製造プロセス用ケミカルスの新展開(Part1))

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概要

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• シ-エムシ-の論文
• 1999-08-15

著者

• 辰巳 徹

  NEC シリコンシステム研究所

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