MOCVDによるZrO2薄膜形成時の表面反応速度--ミクロトレンチによる検討
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- メソ構造を有するP_2O_5-SiO_2系薄膜の作製とその電気伝導度
- Mg^-Fe^-A(A:Cl^-,NO_3^-,SO_4^)系パイロライトの合成とその特性
- LPMOCVD法を用いた炭酸バリウム・ケイ酸バリウムと酸化チタンの成膜
- CVD (Chemical Vapor Deposition) 法による酸化物膜の成膜 : 反応工学的見地に基づくCVD過程の解析
- 反応工学に基づく「化学気相成長法による成膜過程」の解析(2004年度 新任教員研究紹介)
- 枚葉式CVD装置によるシリコンエピタキシャル成長の数値解析
- 低 Pr 流体液柱内の3次元マランゴニ対流の数値シュミレーション
- W-CVDプロセスの反応機構と微細形状シミュレーション
- 非線形表面反応に対応したカバレッジ形状シミュレーション
- 非線型の表面反応を示す系に対するカバレッジのシミュレーション
- 有機シランを原料とするシリカ薄膜の熱CVD
- VLSI製造のためのCVD装置設計とシミュレーション
- 工学部と理学部
- CVDのシミュレーション
- 4. CVD の化学工学 小型反応器を利用した解析とモデリング
- 新素材製造プロセスの解析
- MOCVDによるZrO2薄膜形成時の表面反応速度--ミクロトレンチによる検討
- 減圧MOCVDによるZrO2薄膜の合成 (化工手法による合成技術)
- LPMOCVD法を用いたチタン酸ストロンチウム薄膜の作製
- MOCVD による ZrO2 薄膜形成時の表面反応速度 : ミクロトレンチによる検討
- ZrO2膜のLPMOCVDにおける気相反応速度 : 成膜速度分布の比較