プラズマプロセスによるSiO2/Siの照射損傷

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概要

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• 応用物理学会の論文

著者

• 横川 賢悦

  日立製作所中央研究所

• 湯之上 隆

  日立製作所半導体事業部

• 水谷 巽

  日立製作所笠戸工場

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