加硫剤TMTDによる加硫の機構に関する研究
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概要
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前報に引き続きIRや液状ポリブタジエンのTMTD加硫を, 電場下あるいは有機酸やヒドロキノンを混入して行い, 硫黄加硫やジクミルペルオキシド加硫と比較した.前報同様, 硫黄単独加硫-液状ゴムは電場の影響を多分に受け, ヒドロキノンの抑制効果は認められない. 他方DCPやTMTD加硫では逆に電場の影響が見られず, ヒドロキノンの添加により加硫が遅れる. これらの結果からTMTD加硫はラジカル加硫であると確認できた.また, 加硫促進剤DMのみによる加硫を試み, 各種ベンゾチアゾール化合物 (主としてスルフェンアミド) を混入すれば加硫が可能になり, これは不均一ラジカル化に基づくと結論した.
- 社団法人 日本ゴム協会の論文
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