流動層によるモノシランからの多結晶シリコンの製造 : SiH<SUB>4</SUB>/Ar系におけるクロッギング生成, 粒子成長と微粉生成
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概要
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アルゴン希釈下でのモノシランの熱分解を様々な形状のガス送入口を有する, 内径43および50mmのバッチ流動層を用いて行った.モノシランの反応率は大概99%以上で, フリーボードでの反応は無視できた.平均粒子径が0.316mm以上の場合については, ノズル型のガス送入口を用いれば, 粒子の凝集 (クロッギング) は生じにくいが, 923K以上ではモノシランのジェットの周りに粒子凝集物が形成された.他の3タイプの平板型分散板では, 凝集物は比較的低温で層断面の全体にわたり形成された.微粉の生成はノズル型の場合に比較的顕著であった.粒子径が小さい場合には凝集物が形成されやすい.凝集物の生成を防ぐには, 粒子の循環速度を上げ, 局所的な単位体積当りの析出速度を減少させる必要がある.微粉の生成を減少させるには析出速度に対する微粉生成速度の比を減少させる必要があり, これらのことから, 流動層グリッドゾーンのデザインが重要である.粒子の線成長速度は, 粒子径によらず一定であることが示唆された.反応率および微粉の流出量の実測値を, 前報で報告した速度式から予測される結果と比較し, 大概一致することを示した.
- 社団法人 化学工学会の論文
著者
-
小島 紀徳
成蹊大学工学部応用化学科
-
小島 紀徳
成蹊大学理工学部
-
古澤 健彦
東京大学工学部化学工学科
-
広羽 弘行
東京大学工学部 化学工学科
-
岩田 健二
東京大学工学部 化学工学科
-
古澤 健彦
東京大学工学部 化学工学科
-
小島 紀徳
成蹊大学工学部
-
小島 紀徳
成蹊大学工学部 工業化学科
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