CVDに及ぼす気相および表面反応の影響に関する一考察
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
近年, CVD法による薄膜や微粒子の作成技術は半導体製造プロセス、表面処理あるいはセラミックス原料製造など広範な分野において利用されている.しかし, CVD装置の一般的な解析法および設計基準は未だ確立されておらず, 個々のケースにあわせ経験的に設計・操作されているのが現状である.<BR>管型CVD反応器内における成膜機構については, 稲垣らが実験より得られた成膜速度分布を基に, 気相反応生成物が管壁に拡散して堆積するという逐次過程モデルを提出している。しかし成膜速度分布に関与する因子は多く, 成膜速度分布から気相反応速度を導出しようとする彼らの方法の妥当性を検討する必要がある.ここでは簡単な数学モデルを用いて, 種々の速度場あるいは温度場を想定し, その中で成膜速度分布に及ぼす気相および表面反応の影響を考察した.
- 社団法人 化学工学会の論文
著者
関連論文
- 低Pr数流体液柱の振動マランゴニ対流遷移過程の実験研究
- 有機シランを原料とするシリカ薄膜の熱CVD
- VLSI製造のためのCVD装置設計とシミュレーション
- CVDのシミュレーション
- 4. CVD の化学工学 小型反応器を利用した解析とモデリング
- 新素材製造プロセスの解析
- 減圧MOCVDによるZrO2薄膜の合成 (化工手法による合成技術)
- 短時間微小重力実験における気相内非定常熱移動現象
- 微小重力下の局所加熱された矩形流路内の熱拡散現象
- 微小重力下における下側加熱された水平矩形流路内の熱流動
- 微小重力下における水平型コールドウォール熱CVD装置の熱流動 - 落下塔実験 -
- 水平コールドウォール型CVD装置の熱流動特性および熱拡散現象
- 水平コールドウォール型CVD装置の熱流動解析 : 2次元および3次元モデルと可視化実験
- 微小重力における水平型コールドウォール熱CVD装置の熱流動
- 溶融NaOHの表面張力およびマランゴニ対流挙動
- 溶融NaOHの表面張力およびマランゴニ対流挙動
- 下側加熱された水平型流路内の熱拡散現象
- ステップ状重力変化に対応した密封気体の熱流動の過渡特性
- 矩形流路内の熱拡散濃度分離現象に及ぼす重力の影響
- 縦型回転式熱CVD装置による成膜 (CVD技術の最前線)
- 水平型CVD装置内における流動ならびに物質移動
- CVDに及ぼす気相および表面反応の影響に関する一考察
- 長寿命支持液膜の開発
- MOCVD による ZrO2 薄膜形成時の表面反応速度 : ミクロトレンチによる検討
- 黒鉱からのガリウム, インジウムの湿式製錬プロセスへの乳化液膜の応用
- 銅抽出時のLIX64N支持液膜の劣化
- Ga, In湿式製錬プロセスへの支持液膜の応用
- ZrO2膜のLPMOCVDにおける気相反応速度 : 成膜速度分布の比較
- 濡壁塔におけるNaOH水溶液による希釈H2Sガスの反応吸収
- W/Oエマルションの電気的連続解乳化