全アルミニウム合金製小型スパッタ装置の超高真空特性
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概要
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An all aluminum alloy equipment has been developed for a sputtering deposition of high quality thin films. The equipment is consist of an aluminum alloy sputter chamber with TiN coating, an aluminum alloy cryopump and an oil-free roughing pump system. It is interesting to investigate a pumping behavior and an ultra-high vacuum property of the equipment. The pressure in the sputter chamber could be lowered to 1.3 × 10<SUP>-8</SUP> Pa (9.7 × 10<SUP>-11</SUP> Torr) after a bakeout of 130°C × 46 hours.
- 日本真空協会の論文
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