セラミックスにおける破壊靱性の温度依存性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Compairing the literature values of fracture toughness of various materials revealed that the value of the same kind of material scatters largely, depending on the authors or measuring ways, but that the temperature dependence is very small and almost common, particularly in the range RT through 1, 200 °C, for most ceramics in spite of the large scattering in the absolute value. The temperature coefficient, (-(dK<SUB>Ic</SUB>/dT)/K<SUB>Ic</SUB>(RT)), is(-2. 1-1.6)10<SUP>-5</SUP>/K for SiC ceramics, and(0-1.3)10<SUP>-4</SUP>/K for Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB>. The unexpectedly small temperature dependence was explained on the basis of the dependence of the surface free energy, rs.which was found to be approximated by the empirical formular (-(dγ<SUB>s</SUB>/dT)/γ<SUB>so</SUB> = 1/(2.1T<SUB>m</SUB>) ; T<SUB>m</SUB> is melting or sublimation point ) and that of Youngs modulus, E. On this basis, the value of K<SUB>Ic</SUB> at 1, 600 °C is expected not to be less than 70% of the value at RT, if the material is not affected by low heat resistant boundary material. Furthermore, the literature values are found to be 2 to 6 times larger than the ideal value calculated from (2γ<SUB>s</SUB>E)<SUP>1/2</SUP>. This large value is related to the generation of rough fractured surface.
- 社団法人 粉体粉末冶金協会の論文
著者
関連論文
- 高エネルギー電子照射によるシリコンカーバイド中への金の強制注入とその状態分析
- 高速イオンによる材料表面の改質及び力学特性の改善
- ダイヤモンド薄膜形成に及ぼす基板の前処理効果 (超硬質材料)
- イオン注入による蒸着炭素膜の改質 (脆性材料の評価)
- Zr金属薄膜におけるイオン照射誘起相転移--高圧相の生成 (イオン照射)
- 拡散法によって得られるNa^+, K^+イオン伝導体 : 粉体, 微粒子, 液体, 非晶体, 音響
- 非相容ポリマ-ブレンド系の流動特性の計算モデル
- レオロジーを基にしたセラミックス・高分子材料と加工技術の研究,レオロジーの普及など
- 複酸化物の密度
- 堀尾先生への追悼
- 保証試験の研究 : "等価使用時間"で表された除荷時間
- 機械的応力存在下での焼結ムライトの熱疲労寿命
- サイアロン (実用材料の開発とその背景)
- 複合アルコシキド(MgAl_2(i-OC_3H_7)_8)からのスピネル(MgAl_2O_4)の生成過程とその特性
- 表面に異質層をもつABS樹脂の衝撃強さ
- 寿命保証試験を通過したセラミックスの破壊確率
- ニューセラミックス
- エンジン用セラミックス材料 (展開する高機能材料)
- セラミックエンジン--その意義と将来 (新しい石器時代の到来--やきものからニュ-セラミックスへ)
- MgO, Al_2O_3 またはスピネル添加による窒化珪素の無加圧焼結
- Si_3N_4-AIN-SiO_2系に生ずる窒化珪素固溶体
- アルミナ焼結体の電子顕微鏡観察 : 粉体・液体・非晶質
- ファインセラミックスの精密工業への利用(精密工業における新素材と加工)
- 非均一系におけるX線の強度の異常 : X線マイクロアナリシス シンポジウム
- コッセル像の撮影と応用 : X線マイクロアナリシス シンポジウム
- エンジン用セラミックス応用の現状と将来展望 (エンジン用セラミックスの現状と将来展望--素材を材料として使いこなすために-2-)
- エンジニアリングセラミックスの信頼性 (セラミックスの信頼性の向上に向けて)
- 21世紀の構造用セラミックスの展望と期待 (21世紀のセラミックス--その夢と期待)
- 基礎研究のありかた--産から学に望むこと
- ナノ複合系の材料設計のために
- 金属に替わるセラミックス--構造用セラミックスの実用および技術開発の現状 (金属に替わる?セラミックス)
- 最近のセラミックス材料--新しい担体への可能性 (新しい担体を求めて)
- 超高速せん断射出によるSAN-PCブレンドの部分相容化
- 射出成形における流れ解析
- イオン注入による蒸着炭素膜の改質
- ダイヤモンド薄膜形成に及ぼす基板の前処理効果
- Zr金属簿膜におけるイオン照射誘起相転移 : 高圧相の生成
- 射出成形品の繊維配向解析
- セラミックスにおける破壊靱性の温度依存性
- ナノ化によって材料に何が期待されるか
- 表面エネルギから見たナノメータ複合材料組織の臨界寸法
- 脆性材料の高温における理想強度
- 脆性材料の理想強度 : 一相論的試み
- N+イオン注入したZr/サファイヤの界面状態
- Ag+イオン照射したイットリア安定化ZrO2単結晶の耐亀裂性
- 窒化珪素-アルミナ系焼結体
- 強度を要因として含む新しいセラミックスの開発 : 高信頼性セラミックスの開発とその応用
- Si簿膜の蒸着とイオン照射によるセラミックスのトライボロジー特性の改善
- タイトル無し
- Expecting Never Ending Growth of Polymer Science and Technology
- タイトル無し