直進式高能率超平滑両面ポリシング装置の開発 (第1報) : —装置の試作と一，二の実験結果—
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概要
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The research aims to build the high mass production system for ultra-smoothness polishing of double sides of workpiece. For the aim, the linear motion type of double sides polishing method is newly devised. Furthermore the linear motion type of machine which is possible to polish continuously without the rest or with a short rest of polishing operation by feeding linearly the workpiece parallel to linear movement of polisher is manufactured on trial. By polishing the magnetic disk substrate with the trial machine, the possibility of application of the new method to double sides polishing is examined. Using the new machine, double sides polishing of the substrate is roughly ascertained possible.
- 公益社団法人 精密工学会の論文
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