Influences of underlayers on structure of TiO2 thin films prepared by radio frequency magnetron sputtering
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概要
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In this study, the effects of several underlayers (Cu, Co, Ag and Fe) on the thin structure of TiO2 by RF magnetron sputtering were studied and compared. The results of X-ray diffraction (XRD) revealed that the Cu and Ag underlayer worsened the crystal quality of the TiO2 films. When the Fe underlayer was used, fabricated TiO2 film showed a mixture of rutile and anatase. The Co underlayer, on the other hand, induced TiO2 anatase polycrystalline structure. This study also compared the surfactant effect of a Ag layer on the TiO2 film structure. The results of XRD, X-ray photoelectron spectroscopy, and atomic force microscopy revealed that the Ag layer works as an effective surfactant for reducing the surface roughness and the rutile growth of TiO2 film on the Fe underlayer.
著者
-
神子 公男
東大生研
-
KAMIKO Masao
Institute for Materials Research, Tohoku University
-
YAMAMOTO Ryoichi
Institute of Industrial Science, University of Tokyo
-
HA Jae-Geun
Department of Electronic Materials Engineering, Kwangwoon University
-
AOTANI Kazuaki
Institute of Industrial Science, The University of Tokyo
-
Yamamoto Ryoichi
Institute For Chemical Research Kyoto University:fuji Photo Film Co. Ltd.
-
Kamiko M
Institute Of Industrial Science University Of Tokyo
-
Kamiko Masao
Institute For Materials Research Tohoku University:(present Address)institute Of Industrial Science
-
Kamiko Masao
Institute For Materials Research Tohoku University
-
KAMIKO Masao
Institute of Industrial Science, The University of Tokyo
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