Kamiko M | Institute Of Industrial Science University Of Tokyo

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概要

• 神子 公男の詳細を見る
• 同名の論文著者
• Institute Of Industrial Science University Of Tokyoの論文著者

関連著者

• Kamiko M

  Institute Of Industrial Science University Of Tokyo

• Kamiko Masao

  Institute For Materials Research Tohoku University

• 神子 公男

  東大生研

• Kamiko Masao

  Institute For Materials Research Tohoku University:(present Address)institute Of Industrial Science

• 山本 良一

  東大生研

• KAMIKO Masao

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• Mogi I

  Institute Of Materials Research Tohoku University

• 河 在根

  韓国光云大工

• 神子 公男

  東北大学金属材料科研究所

• Mogi I

  Tohoku Univ. Sendai Jpn

• 大久保 晋

  東北大学金属材料科研究所

• Mogi Iwao

  Institute For Materials Research Tohoku University

• 神子 公男

  東北大金研

• 大久保 晋

  東北大金研

• 千早 宏昭

  東大工

• Kyuno Kentaro

  Institute Of Industrial Science University Of Tokyo

• 千早 宏昭

  東大生研:産総研

• Mogi Iwao

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• 山本 良一

  東京大学生産技術研究所

• 光田 好孝

  東大生研

• 光田 好孝

  東京大学生産技術研究所

• 光田 好孝

  東大 生産技研

• 野瀬 健二

  東京大学 生産技術研究所

• 弓野 健太郎

  東大教養

• 具 正祐

  韓国光云大

• 末永 亮

  芝浦工大

• 野瀬 健二

  東大生研

• 弓野 健太郎

  芝浦工大

• 河 在根

  韓国光云大

• MOGI Iwao

  Institute for Matererials Research, Tohoku University

• 本河 光博

  東北大金研

• 茂木 巌

  東北大金研

• 茂木 巖

  東北大金研 & CREST-JST

• 岩波 瑞樹

  東大生研

• 岩波 瑞樹

  東京大学

• YAMAMOTO Ryoichi

  Institute of Industrial Science, University of Tokyo

• Yamamoto Ryoichi

  Institute For Chemical Research Kyoto University:fuji Photo Film Co. Ltd.

• 山本 良一

  東大先端研

• 山本 良一

  広大総合科

• 木戸 義勇

  東北大金研

• 山本 良一

  東大工

• 木戸 義勇

  金材技研

• 橋本 稔

  信州大学繊維学部感性工学科

• 橋本 稔

  信州大学繊維学部

• 茂木 巖

  東北大学金属材料研究所

• 松本 達彦

  東大生研

• 浅野 攝郎

  東大教養

• 小島 勇夫

  産総研 計測標準部門

• 青谷 和明

  東大生研

• 千早 宏昭

  東大生研

• 呉 相文

  東大工

• 許 俊華

  産総研

• 神子 公男

  東大工

• 神子 公男

  東京大学生産技術研究所

• 舘泉 雄治

  東京工業高等専門学校電気工学科

• 鈴木 晃

  東京大学生産技術研究所

• 弓野 健太郎

  東大生研

• 河 在根

  東大生研

• 舘泉 雄治

  東京工業高等専門学校

• 小島 勇夫

  産総研

• Yamamoto Ryoichi

  Laboratory Of Biology And Chemistry Tezukayama College

• Asano Setsuro

  The Graduate School Of/college Of Arts And Sciences The University Of Tokyo

• KOJIMA Isao

  Materials Characterization Division, National Metrology Institute of Japan (NMIJ)

• HA Jae-Geun

  Department of Electronic Materials Engineering, Kwangwoon University

• AOTANI Kazuaki

  Institute of Industrial Science, The University of Tokyo

• XU Junhua

  Materials Characterization Division, National Metrology Institute of Japan (NMIJ)

• 山本 良一

  国際グリーン購入ネットワーク(igpn)事務局

• 弓野 健太郎

  Department Of Materials Engineering School Of Engineering The University Of Tokyo

• Yamamoto R

  Kyoto Univ. Kyoto Jpn

• 茂木 巌

  Inst. For Matererials Res. Tohoku Univ.

• Mizuno Hiroyuki

  Institute of Industrial Science, University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan

• Chihaya Hiroaki

  Institute of Industrial Science, University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan

• Xu Junhua

  Materials Characterization Division National Metrology Institute Of Japan National Institute Of Adva

• Kojima Isao

  Materials Characterization Division National Metrology Institute Of Japan National Institute Of Adva

• Kojima Isao

  Materials Characterization Division National Metrology Institute Of Japan (nmij)

• 河 在銀

  韓国光云大

• Chihaya Hiroaki

  Institute Of Industrial Science University Of Tokyo

• Mizuno Hiroyuki

  Institute Of Industrial Science University Of Tokyo

• 茂木 巌

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• 神子 公男

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• KAMIKO Masao

  Institute of Industrial Science, The University of Tokyo

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著作論文

• 26pPSA-63 下地層とサーファクタント層を用いたTiO_2薄膜の構造制御(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• Ni(100)表面上のホモエピタキシャル成長におけるPbサーファクタントの効果
• 強磁場による電析物の形態制御
• 28a-C-7 電析パターンへの磁場効果
• 4p-E-6 有機導電性ポリマーの拡散律速電解重合パターン
• 14p-F-4 Znの電析パターンにおける強磁場の影響
• 27aPS-35 シーディッドエピタキシー法を用いたCo/Cu金属多層膜の構造と物性(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
• 20aPS-23 Co シード層を用いた Au 薄膜の構造制御
• 28aZE-6 Au(111) 面上の Co 成長における Bi サーファクタント効果
• 28aWD-6 シーディッドエピタキシー法を用いた Co/Cu(100) 金属多層膜の構造制御と物性
• 仮想実験技術を用いた分子動力学シミュレーションの現状と展望(シミュレーションは何処まで実験を補完できるか-仮想実験による物質材料設計の試み)
• Au/(Fe-Co)の人工格子の垂直磁気異方性
• Suppression of Growth Instability in Electropolymerization of Pyrrole
• Magnetic-Field-Induced Diffusion-Limited-Aggregation in Electrodeposition
• 電析パターン形成の交流インピーダンス特性
• Novel Electrochemical Phenomena in Magnetic Fields(Research in High Magnetic Fields)
• Influences of underlayers on structure of TiO2 thin films prepared by radio frequency magnetron sputtering
• Bi-enhanced Heteroepitaxial Layered Growth of Cr on Fe(100)-$c$($2{\times} 2$)O Reconstruction Surfaces
• ピロ-ルの磁気電解重合におけるパタ-ン形成
• 28pTH-5 凝集現象を用いた自己組織化ナノドット薄膜の作製(28pTH 表面界面構造(金属),領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23pPSA-13 凝集現象を用いた自己組織化Agナノドット薄膜の微細構造制御(23pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 21aRC-1 凝集現象を用いた自己組織化金属ナノ構造薄膜の作製(21aRC 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))

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