具 正祐 | 韓国光云大

スポンサーリンク

概要

• 具 正祐の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 韓国光云大の論文著者

関連著者

• 具 正祐

  韓国光云大

• 神子 公男

  東大生研

• 河 在根

  韓国光云大工

• 光田 好孝

  東大生研

• 末永 亮

  芝浦工大

• 野瀬 健二

  東大生研

• 弓野 健太郎

  芝浦工大

• 光田 好孝

  東京大学生産技術研究所

• Kyuno Kentaro

  Institute Of Industrial Science University Of Tokyo

• 光田 好孝

  東大 生産技研

• 野瀬 健二

  東京大学 生産技術研究所

• 弓野 健太郎

  東大教養

• 河 在根

  韓国光云大

• Kamiko M

  Institute Of Industrial Science University Of Tokyo

• Kamiko Masao

  Institute For Materials Research Tohoku University:(present Address)institute Of Industrial Science

• Kamiko Masao

  Institute For Materials Research Tohoku University

• 具 正祐

  筑波大:産総研

• 具 正祐

  筑波大:物材機構

• 河 在銀

  韓国光云大

• 介川 裕章

  筑波大数理

• 新関 智彦

  筑波大数理

• 葛西 伸哉

  筑波大数理

• 具 正祐

  筑波大数理

• 三谷 誠司

  筑波大数理

• 温 振超

  筑波大数理

• 猪俣 浩一郎

  筑波大数理

• 三谷 誠司

  筑波大数理:物材機構

• 具 正祐

  筑波大数理:物材機構

• 河 在根

  Kwangwoon Univ.

もっと見る 閉じる

著作論文

• 28pTH-5 凝集現象を用いた自己組織化ナノドット薄膜の作製(28pTH 表面界面構造(金属),領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23pPSA-13 凝集現象を用いた自己組織化Agナノドット薄膜の微細構造制御(23pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 21aRC-1 凝集現象を用いた自己組織化金属ナノ構造薄膜の作製(21aRC 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 24aPS-20 Fe/MgAl_2O_x積層膜の作製と界面垂直磁気異方性の評価(24aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 20pPSA-43 二層凝集現象を用いて作製した自己組織化Agナノドット薄膜の光学特性(20pPSA 領域9 ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長)
• 20aFF-1 二層凝集現象を用いたMgO基板上の自己組織化エピタキシャルAgナノドットの作製(20aFF 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長)

スポンサーリンク