野瀬 健二 | 東京大学 生産技術研究所
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概要
関連著者
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野瀬 健二
東京大学 生産技術研究所
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光田 好孝
東大生研
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光田 好孝
東京大学生産技術研究所
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光田 好孝
東大 生産技研
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野瀬 健二
東大生研
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神子 公男
東大生研
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河 在根
韓国光云大工
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Kyuno Kentaro
Institute Of Industrial Science University Of Tokyo
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弓野 健太郎
東大教養
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具 正祐
韓国光云大
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末永 亮
芝浦工大
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弓野 健太郎
芝浦工大
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Kamiko M
Institute Of Industrial Science University Of Tokyo
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Kamiko Masao
Institute For Materials Research Tohoku University:(present Address)institute Of Industrial Science
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Kamiko Masao
Institute For Materials Research Tohoku University
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光田 好孝
東京大学 生産技術研究所
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河 在根
韓国光云大
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森久 祐弥
東京大学 生産技術研究所
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佐々木 勇斗
東京大学 生産技術研究所
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河 在銀
韓国光云大
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神子 公男
東京大学 生産技術研究所
著作論文
- 高周波バイアススパッタにおけるDLC薄膜/基材界面の構造変化と耐磨耗特性
- 28pTH-5 凝集現象を用いた自己組織化ナノドット薄膜の作製(28pTH 表面界面構造(金属),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23pPSA-13 凝集現象を用いた自己組織化Agナノドット薄膜の微細構造制御(23pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aRC-1 凝集現象を用いた自己組織化金属ナノ構造薄膜の作製(21aRC 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 基材再堆積法によるDLC膜/AI合金基材の界面制御
- 分光器の温度依存性を考慮した高精度ラマン分光測定