Fabrication of All-High-Tc Josephson Junction by Plasma Treatment

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る

• All-high-Tc Josephson junctions consisting of a YBCO/barrier/YBCO-layered structure using epitaxial YBCO films sputtered on MgO(100) have been successfully fabricated. The barrier layer was obtained by Ar+O2 plasma treatment of the surface of the base electrodes. These junctions show superconductor/normal-metal/superconductor(SNS) -like current-voltage characteristics. Constant-voltage current steps observed in response to 10GHz microwave radiation show that ac-Josephson effects occur in these junctions.

• 津山工業高等専門学校の論文
• 1992-02-25

著者

• 原田 寛治

  電気電子工学科

関連論文

• Fabrication of All-High-Tc Josephson Junction by Plasma Treatment
• 三層構造超伝導バルクの作製
• イットリウム系酸化物超伝導薄膜に関する研究
• 津山高専志願者の確保のための電気電子工学科の試み
• 超伝導薄膜における液相の拡散
• 部分溶融法による液相の拡散
• バルク超伝導体の保護膜による磁気浮上特性
• 新しいコンピュータ環境に適する教育課題の研究
• 部分溶融法によるイットリウム系超伝導体の作成Ⅱ
• 部分溶融法によるイットリウム系超伝導体の作成
• イットリウム系超伝導薄膜のバイアス電圧効果
• 酸化物超伝導体に関する研究Ⅱ
• 酸化物超伝導に関する研究

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク