505 窒化アルミニウム二層膜の結晶配向性および残留応力評価(OS5-2 回折法による材料評価)
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概要
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Crystal orientation and residual stress development in two-layered AIN films on glass substrate were investigated by X-ray diffraction method. The two-layered MN films were prepared by two kinds of sputtering with different power supply. The bottom layer was deposited by dc sputtering, and top layer was deposited by rf sputtering. We prepared each single-layered AINN films of dc and if sputtering to compare with the two layered films. The c-axis orientation of the two-layered AIN films was better than that of single-layered one. And then, residual stress in the two-layered films became smaller than that in the single-layered one.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2010-10-09
著者
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