T1601-3-4 レジストのスプレー成膜におけるアパーチャの効果([T1601-3]マイクロナノメカトロニクス(3))
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概要
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Spray coating of photoresist is one of the key techniques for applying the lithography to 3D samples. Generally, it is difficult to obtain the conformal resist thickness over 3D samples. In case of trench samples with vertical walls, the resist is thicker on top surface and thinner on bottom surface. On the vertical side wall, thick bump is observed near to the top surface. This is because the gas flow for carrying resist particles can't enter inside the trench but passes over trench top surface. Based on the thickness distribution analysis, the resist deposition inside trench is found to be disturbed especially outer region of the spray corn. Aperture for using the center region of spray corn is newly introduced in the spray coater. The effect is confirmed.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2010-09-04
著者
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