ミリ波ミキサー用ジョセフソン素子製作プロセス
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概要
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We used RF sputter, ion beam etching, photo resography and electron beam exposure equipments, to fabricate thin film josephson junction for a milimeter wave mixer. By this process, a short week link was got bridge with high repeatability. The structure of the junction is Nb /Si/ Nb and the Al bridge is formed on a slope edge of Si. Running condition of each process is described in this paper.
著者
-
石井 孝一
木更津工業高等専門学校電気工学科
-
中村 強
木更津工業高専
-
稲谷 順司
国立天文台野辺山電波観測所
-
小平 眞次
木更津工業高等専門学校電気工学科
-
中村 強
木更津工業高等専門学校基礎学系
-
稲谷 順司
東京天文台野辺山宇宙電波観測所
-
石井 孝一
木更津工業高等専門学校
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