S0303-1-2 Ni-Ti形状記憶合金表面からの金属イオン溶出挙動と生体細胞への影響(形状記憶合金の特性と応用展開(1))

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概要

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• In order to improve the biocompatibility of a Ti-Ni alloy, mechanically polished Ti-Ni samples were subjected to isothermal oxidation (TO) in N_2-20vol%O_2 at temperatures of 573 or 773K. Cell culture tests were conducted with L929 fibroblast cells to examine the cell proliferation. The specimens TO-treated at 773K and below showed good cell compatibility because the Ni-free surface layer prevented the Ni ions from diluting into the culture. In addition, cell culture tests with Ni ion induced alteration of cellular morphology, decreased number of adherent cells. These results indicate that cell proliferation is influenced by amount of more than 30mg/1 of Ni ion.

• 2009-09-12

著者

• 水谷 正義

  (独)理化学研究所

• 松村 有希子

  慶應大・理工・機械工

• 小茂鳥 潤

  慶大

• 小茂鳥 潤

  慶大・理工

• 水谷 正義

  理研

• 水谷 正義

  慶應義塾大学

• 水谷 正義

  独立行政法人理化学研究所

• 小茂鳥 潤

  慶應義塾大学

• 小茂鳥 潤

  北里大学 医学部微生物･皮膚科

• 水谷 正義

  (独)理化学研究所基幹研究所

• 松田 浩一

  岩手県立大学

• 松村 有希子

  慶大院

• 小茂鳥 潤

  慶應義塾大学理工学部機械工学科

• 小茂鳥 潤

  慶応大

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