21108 マランゴニ乾燥のメカニズムの実験的研究(プロセス技術,OS.3 機械工学が支援する微細加工技術(半導体,MEMS,NEMS))
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概要
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To clarify the mechanism of Marangoni drying used for rinsing and drying process of silcon substrate in semiconductor manufacturing industries, the concentration of soluble gas component in the meniscus on a hydrophilic silicon wafer during vapor dissolution have been visualized by phenol red reagent when ammonia gas was used as soluble gas. It is clarified that a concentration gradient that induces Marangoni force appears in the meniscus during the vapor dissolution and the three phases line is pulled down on the silicon wafer by the Marangoni force. Therefore, the mechanism of Marangoni drying that had been thought up to now was confirmed.
- 2009-03-05
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