マランゴニ乾燥における残留液膜・液滴の乾燥挙動(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性,一般))
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概要
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ウェーハの大口径化に伴い,これまで、半導体製造の洗浄・乾燥技術において有効とされてきたマランゴニ乾燥についても,ウォーターマークやパーティクル等の残留物の発声が問題視されるようになってきた.本研究では,それらが低減するための指針を得るために,有機物ガスのウェーハ上に残留する液滴・液膜が,何故,有機物ガスが溶解する環境でありながら,乾燥,消失していくのかを明らかにするために,その考察,また実証実験として,CCDカメラによる乾燥時間の測定を行った.その結果,雰囲気中の水蒸気濃度,IPAガス濃度が残留液膜・液滴の乾燥時間に影響を及ぼし,それらが乾燥・消失するメカニズムに密接に関わっていることが示唆された.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2008-06-06
著者
-
山田 純
芝浦工業大学工学部
-
鴨志田 隼司
芝浦工業大学工学部
-
宮本 泰治
大日本スクリーン製造株式会社
-
宮本 泰治
芝浦工業大学大学院 工学研究科 地域環境システム専攻
-
山田 純
芝浦工業大学
-
鴨志田 隼司
芝浦工業大学 工学部 機械工学第二学科
-
鴨志田 隼司
芝浦工業大学
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